優點

•    從10 nm開始的粒徑測量
•    符合DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準而且在國際範圍內可比較的測量結果
•    簡單使用不同的測試氣溶膠，例如NaCl / KCl或DEHS（其他可根據要求提供）
•    易於移動的稀釋級聯，系數分別為10、100、1,000和10,000，用於鹽或DEHS測量
•    方便地測量餾分分離效率並確定MPPS範圍
•    測試方法的高重復性
•    靈活的過濾器測試軟件FTControl
•    易於操作，即使未經培訓的人員也可以快速使用設備
•    客戶可以自主進行清潔
•    設置時間短，吞吐時間快
•    移動設置，易於在腳輪上移動
•    在交付前驗收測試期間以及交付時驗證單個組件和整個系統的功能
•    運行可靠
•    低維護
•    設備將減少您的運營成本

說明

在實際的開發和質量控制應用中，Palas®的MFP過濾器測試臺已經在世界各地經過多次驗證。

MFP Nanoplus專門設計用於根據DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準準確測定HEPA和ULPA過濾介質的分離效率而計。

U-SMPS形式、現代且功能強大的納米顆粒測量設備可將用於5 nm到1 µm範圍粒度測量和量化分析。

借助通用氣溶膠發生器UGF 2000，可以用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產與MMPS範圍相匹配的準確氣溶膠分布。

由於采用可移動稀釋液級聯，因此可以在非常短的時間內將測試設備從使用鹽霧劑轉換為DEHS霧劑，而無需清洗。

測試序列的高度自動化設置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調整程序相結合，共同提供高度可靠的測量結果。

MFP過濾器測試臺是用於扁平過濾器介質和小微型過濾器的模塊化過濾器測試系統。可以在很短的時間內確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負荷，既可靠又具有成本效益。

我們的質量細節

1.使用UGF 2000產生多種氣溶膠，例如使用KCl/NaCl或DEHS。集成的矽膠幹燥長管。通過質量流量控制器單獨調節產生的氣霧體積流量。

2.氣溶膠中和：Kr 85-370電源或軟X射線充電器XRC 370電暈放電（可選）：可調節離子流以適應不同質量流量。可調混合空氣，流入速度為1.5至40厘米/秒。通過質量流量控制器實現監視和控制。

3.可移動的氣動過濾器支架，用於快速拆卸和裝載測試裝置。

4.可移動的稀釋液級聯：稀釋液級聯可以按規定的10、100、1,000和10,000因子對所施加的測試氣霧劑進行規定的稀釋。由於它們是可移動的，因此可以在很短時間內將測試設備從使用鹽霧劑轉換為DEHS霧劑。無需長時間或復雜地清潔系統。

5.用於納米顆粒測量的U-SMPS

Palas®過濾器測試軟件FTControl控制U-SMPS並評估數據。

將氣溶膠分布調整到MPPS範圍

通過適當調整溶液濃度，可以將生成的粒度分布與MFP Nano plus中的相關MPPS範圍匹配。

圖1：使用DEHS調整所需MPPS範圍的粒徑

圖2：比較140 nm粒徑MPPS範圍內的餾分分離效率

•    清晰展示整個測量範圍內過濾介質的分離效率
•    準確測定MPPS範圍
•    較高的測量重現性和可重復性突出顯示分離效率的微小差異
•    優化的應用程序將每次分離效率測量的測量時間縮短到6分鐘左右
•    分離效率曲線的簡單比較，也可以計算平均值

自動化：

MFP Nano +集成有質量流量控制器，可用於控制體積流量；可以通過FTControl過濾器測試軟件自動監視和控制這些流量。在過濾器測試期間，還會自動記錄傳感器數據，例如過濾器流量和壓差。在沒有稀釋系數與分離效率（10、100、1,000或10,000）相匹配的過濾介質情況下進行原始氣體測量。然後，在不稀釋並插入過濾介質的情況下進行清潔氣體測量。稀釋系數的改變是自動執行的。

稀釋系數的驗證：

集成在MFP Nanoplus中的稀釋系統的工作原理與采用噴射原理的成熟的VKL系列相同。 這種稀釋級聯的優點是傳輸過程清晰、汙染程度低而且容易清洗。

圖3：將原始氣體/清潔氣體與10倍NaCl顆粒進行比較來驗證稀釋系統數

•    使用MFP Nanoplus，可以在MPPS範圍內以及整個測量範圍內進行餾分分離效率測量。 另外，在相關的流入速度下，清楚地確定介質相關壓力損失。

應用領域

•    用於過濾介質和小型過濾器組件
•    產品開發/生產控制
•    根據EN 1882-3（HEPA / ULPA）和ISO 29463-3標準進行測試
•    分離效率測量範圍約為 20 nm至1 µm